热点新闻《中科院研发出全固态DUV光源技术》解读,网友有何看法?

还记得ASML首席执行官曾说过:“中国人很聪明,美国制裁,可能会逼中国人研究出自己的技术。”当时很多人觉得他在捧中国脚丫子,甚至国内也有一些人觉得他是为了卖光刻机,吹嘘中国。…

关于中科院研发出全固态DUV光源技术的热点新闻,VIP农商网小编为您精心整理了如下解读与看法。

中科院研发出全固态DUV光源技术

中科院研发出全固态DUV光源技术热点解读

据农商网于2025年03月28日 22时35分31秒发现,中科院研发出全固态DUV光源技术热点,ASML的担心真的应验了!

还记得ASML首席执行官曾说过:“中国人很聪明,美国制裁,可能会逼中国人研究出自己的技术。”

当时很多人觉得他在捧中国脚丫子,甚至国内也有一些人觉得他是为了卖光刻机,吹嘘中国。

结果啊,这话还没两年,国产光刻机再次实现重大突破。

根据中科院消息,中科院成功研发出了全固态的DUV光源技术,用这项技术制造芯片,可以造出3nm芯片,而且成果得到了国际光电工程学会的认可。

真是大预言家啊!

不过这不重要,重要的是这项技术突破很快就引爆了芯片行业!

为啥?因为它和ASML的路线完全不同,甚至打破了欧美光刻机的传统思路。

要知道,光刻机的三大核心技术,就是光源系统、光学系统和双工作台,尤其是光源系统直接决定了光刻机的分辨率和精度。

咱们常说的EUV和DUV就是光源技术的两大种类。

在ASML的技术路线中,DUV光刻机一般用于制造7nm以上的芯片,只有EUV光刻机才可以造出7nm以下的芯片。

而EUV光刻机非常复杂,只有ASML的技术才能搞定。

因此啊,美国试图通过控制ASML,来锁死中国芯片技术。

然而中科院的固态DUV光源技术,打破了传统技术路线。

它与ASML的技术路线完全不同,传统DUV和EUV光刻机中光源是用的稀有气体来产生激光的,比如ASML的EUV光刻机光源采用的就是一项名叫氟化氙(ArF)的准分子激光技术。

而中科院光源技术不是用气体,而是固态晶体产生的。

别小看这个小小的转变,它直接带来了三大技术突破。

第一突破就是用DUV光刻机做出了EUV才能做到的事情。

根据中科院测试,固态DUV光源技术可以发射出193nm相干光,这个光的各项参数和光谱纯度与主流7nm 硅商用差不多。

这意味着它可以用在7nm甚至3nm芯片制造上。

如果这项技术能顺利落地的话,那么就意味着咱们不需要购买EUV也能造出先进的芯片,美国的光刻机制裁就没啥用了。

更关键的是,目前还只是在DUV上应用固态光源技术,如果在波长更短的EUV上也用这项技术呢?会不会生产出更先进芯片?概率还是很大的。

第二突破点则是绕开美国企业的专利群。

ASML几次向美国申请售卖EUV光刻机,但是都被美国拒绝了,有些人说那是因为荷兰怕美国制裁。

但问题是美国怎么制裁ASML呢?

答案很简单,就是EUV光刻机的核心技术其实是掌握在美国企业手里的,比如美国应用材料,英特尔、泛林集团等等。

就连EUV光源设备供应商Cymer曾经也是美国的,虽然现在转给ASML,但是美国的禁令,他们也不敢不遵守。

你ASML想挣中国的钱,问问美国企业答不答应?

所以美国能轻松拿捏ASML,进而控制整个芯片产业链。

中国也在想方设法绕过这些专利,比如哈工大就曾经用核聚变中的“Z箍缩技术”,来制造极紫外光源!

不过这项技术还是基于ASML的技术路线。

但是固态光源技术却完全不一样了,它基于固态设计的光源系统,不管是结构、材料都发生了巨大的变化,相当于重新设计一套系统。

新系统自然就没有专利束缚,可以大规模应用了。

至于第三个突破点也很重要:那就是结构更简单。

根据中科院信息,采用固态光源技术,光刻结构更简单,整体体积可以缩小30%以上。

要知道,光刻机的体积可是相当大的,有12米长,7米宽,4米高,里面各种设备相当复杂,被称为工业皇冠上的明珠。

ASML等欧美企业一直试图简化光刻机设备的复杂程度,但是一直没能成功。

现在中科院的方案却可以减少整整三分之一的体积,不仅意味着它更容易建成,还有能耗也能跟着减少。

有了这三大好处,我们大胆猜测中科院DUV固态光源路线还是值得期待的。

当然了,这项技术毕竟还在实验室,有许多技术细节还没完善,比如它的功率还比较低,需要不断迭代才行。

但就算它将来不能落地,那又怎么样?

今天能研发出核聚变光源和固态光源,明天就能研发出新的光源,一次又一次的尝试,总有一天能突破技术路线的限制。

这也是ASML最担心的一个。#光刻机突破在即##ASML CEO谈中国和西方芯片制造差异##ASML光刻机巨头#

网友看法

1、网友理性红军:天天突破,不记得突破多少次了

2、网友悟空是矿工:固态光源,能解决能量不足问题,绝对拿诺贝尔[捂脸]

3、网友新中国人:还在说光刻机,中国根本就不需要外国光刻机支持了

4、网友山岭老卒:如果这是真实的,值得大大的点赞,但文中又说”如果技术落地的话……”这是什么意思?

5、网友积极的船帆jC:全网在说光刻机华为搞定一切,怎么中科院在公关。

6、网友汉朝北海星:国家安全局一定要重视保护这项技术机密

7、网友赞颂传扬正能量:荷兰ASML公司对中国的态度变化主要体现在以下几个方面: 1. 出口限制压力:ASML曾受到美国政府的压力,要求减少对中国的高端光刻机出口。这种限制旨在遏制中国在半导体技术上的发展。 2. 公司立场:尽管受到外部压力,ASML的管理层多次表示,希望继续与中国保持业务往来,认为中国市场具有重要的经济价值。 3. 荷兰政府的摇摆:荷兰政府在是否追随美国限制政策上曾表现出不稳定性,时而支持限制,时而表示担忧中国限制稀有金属出口对荷兰利益的影响。 4. 经济利益考量:ASML在中国市场的营收占比较大,因此公司希望保持对华出口,以避免经济损失。 5. 国际博弈因素:全球半导体供应链的复杂性使得ASML在国际政治博弈中面临挑战,努力寻求在遵守国际规则与维护自身利益之间的平衡。 这些因素共同影响了ASML对中国的态度变化。

8、网友盛世竹溪:不光点赞,还要给伟大的科学家每人发一个亿。[赞][赞][赞]

9、网友吃饱睡觉222:早几年前就说过,我们光刻机会像新能源车那样会实现弯道超车的,白菜价的芯片不远了

10、网友空空如也不空空:为中国科技人点赞,这是伟大的进步!

11、网友社会看官:这不是自媒体发的吗,我基本每天都能看到这种新闻

12、网友凡尘暮鱼:[赞]为科技进步点赞

13、网友寻梦190681882:每一次进步,都让我心潮澎湃!

14、网友哈古那玛塔塔:这个信息去年年底就走了

15、网友闲云野鹤:它们同样说过:就是把图纸给中国,中国人也要不出来。

16、网友完美书签m5W:1 0.07W不到正常DUV的1/1000水平。2,原来国产DUV光刻机光源没有搞定啊,看来还是要进口日本的光源啊

17、网友XQ1234567890:把新光源用来替代DUV中的光源,是否可以把现有的DUV变成EUV光刻机呢?[大笑]

18、网友green0515:又一个DeepSeek

19、网友往事随风飘散:哇哈哈哈哈,明天我要喝两杯,敬科学工作者

20、网友烛光4471:不知道真假,中国人聪明,我一直相信,可是由于诸多原因,和美国的差距,我觉得不是近期能够赶超的,你们觉得呐?

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